정부 R&D 특허성과의 국내 및 해외특허성과 현황

정부 R&D 특허성과 현황 (특허성과의 양적 측면)

[국내 특허성과 현황]

정부 R&D 국내 특허출원은 최근 5년간 연평균 8.5%증가하여, 민간 R&D 특허출원(증가율 0.9%) 대비 빠르게 증가하고 있음

정부 R&D 특허생산성(R&D 투입비용 10억당 특허출원 건수)은 해외 연구기관과 비교하여 매우 높은 수준으로 나타남

출처: AUTM 조사보고서, 일본대학지적재산연보, R&D특허센터 조사결과

‘11년 정부 R&D 국내 특허등록은 ‘10년 대비 72.2% 급증

[해외 특허성과 현황]

최근 5년간 정부R&D 국내특허출원은 지속적으로 증가한 반면 해외특허출원은 감소한 것으로 나타남

*연평균 특허출원 증가율(07년~11년): 8.8%(국내출원) VS 6.1%(해외출원)

정부 R&D의 해외 특허출원은 내국인 전체의 해외 특허출원에 비해 미흡한 것으로 나타남

*해외출원건수/국내출원건수(07~11년): 11.2(정부R&D) VS 35.6%(내국인 전체)

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