 전기전자
|
Hitachi Chemical 대 K.C.Tech 간의 CMP slurry 관련 특허 분쟁
|
Hitachi Chemical 대 K.C.Tech 간의 CMP slurry 관련 특허 분쟁
1) 당사자
∙ 원고 : Hitachi Chemical Co., Ltd.
∙ 피고 : K.C.Tech
2) 분쟁내용
11월 15일, 일본 Hitachi Chemical Co., Ltd.(이하 Hitachi Chemical)는 국내 반도체 기업K.C.Tech를 CMP slurry 관련 자사의 미국특허를 침해했다고 주장하며 미국 텍사스 서부지방법원에 제기했다.
이번 소송은 분쟁 특허 기술에 대한 양사간의 협상이 결국 결렬되자, Hitachi Chemical가 소를 제기한 것이다. 결국, 분쟁 특허에 대한 특허 사용료 지불을 요구하기 위해서 소를 제기했다.
침해 제품으로 지목된 것은 KC Tech의 cerium oxide(또는 “ceria”) slurry 제품인 KCS-3100이다. 이 제품은 화학적 기계적 연마 프로세스에서 사용된다.
소장에서 Hitachi Chemical이 문제 삼은 KCS-3100의 특징은 다음과 같다.
▪ KCS-3100 슬러리는 ceria 입자(ceria particle)를 포함한다.
▪ KCS-3100 슬러리는 분산제(dispersant)를 포함한다.
▪ KCS-3100 슬러리 내의 ceria 입자는 결정 입계(crystal grain boundaries)를 가진다.
▪ 연마 과정에서, KCS-3100 슬러리 내의 ceria 입자 더 작은 입자로 부서진다.
▪ 연마 과정에서, KCS-3100 슬러리 내의 ceria 입자 더 작은 입자로 부서지는 동안, 이 입자들은 이전에 노출된 적이 없는 결정 입계에서 새로운 면을 노출시킨다.
* 참고 : CMP slurry
CMP slurry는 반도체를 만드는 토대가 되는 얇은 판인 웨이퍼를 평탄하게 가공하는데 사용하는 연마액이다. 화학적 연마와 기계적 연마를 동시에 실시하여 반도체 웨이퍼의 평탄도를 높이고 공정 시간을 줄인다.
3) 분쟁특허
▪ US7115021 - Abrasive, Method of Polishing Target Member and Process for Producing Semiconductor Device(출원일 2002.01.11, 등록일 2006.10.03)
▪ US7871308 - Abrasive, Method of Polishing Target Member and Process for Producing Semiconductor Device(출원일 2006.07.12, 등록일 2011.01.18)
상기 특허들은 반도체 장치를 생산하기 위한 프로세스, 타겟 부재를 연마하는 방법 그리고 연마제에 관한 것이다.
4) 분석 및 향후 전망
Hitachi Chemical의 이번 소송에 대해 K.C.Tech는 맞소에 대한 입장을 명확히 했다. 언론 보도를 통해, K.C.Tech는 Hitachi Chemical의 특허를 침해한 바 없으며 특허 무효화 등의 대응을 할 것이라고 밝혔고, 동시에 Hitachi Chemical의 CMP slurry 제품이 자사의 특허를 침해하고 있다고 판단, Hitachi Chemical를 상대로 특허 침해 소송을 제기할 예정이라고 입장을 분명히 했다.
이러한 K.C.Tech의 입장을 토대로 향후 양사간 분쟁이 치열한 공방전을 펼칠 것으로 전망된다.
장비업계는 일본 대기업이 국내 중소, 중견기업을 상대로 특허 소송을 제기하는 경우는 국내 중견중소기업의 시장 진입을 막겠다는 의도로 분석하고 있다. 또한 이러한 법적 소송을 통해 해당 제품을 사용하는 국내 소자 기업인 삼성전자나 하이닉스 반도체의 글로벌 시장 지배력을 약화시키려는 의도를 가지고 있다고 보고 있다.
현재 일본 엘피다나 도시바의 D램 및 낸드플래시 경쟁력이 약화되고 있는 반명 삼성전자나 하이닉스의 시장 지배력은 강화되고 있는 모양새를 보이고 있다. 시장의 상황이 이렇게 진행되자 반격수단으로, 일본 장비업체들이 국내 장비 업체에 대해 특허 침해 소송을 이용 전략적 공격을 가하고 있으며, 국내 소자 기업을 압박하고 있다고 업계는 분석한다.
[국제IP 분쟁동향 및 소송사례 조사분석:산업별 국내 기업의 IP 분쟁 사례 中]
출처: 특허청
|
|
|
동향
