1. 국가별 출원현황
광학 분야에서 2000년~2010년 동안 한국의 출원건수는 63,360건이며, 한국의 점유율은 68.9%이다. 동기간 동안 일본의 출원건수와 점유율은 각각 19,626건과21.3%이다.
광학 분야에서 다출원 10위 국가 중 2000년~2010년 동안 연평균 증감율이 가장높은 국가는 중국이고 가장 낮은 국가는 스위스이다.
중국과 스위스의 연평균 증감율은 각각 35.6%와 -7.7%이다. 2. 내국 출원인의 출원현황
내국인 중 광학 분야에서 출원을 주도하는 출원인은 삼성전자와 엘지디스플레이이다.2000년~2010년 동안 삼성전자와 엘지디스플레이의 출원건수는 각각 18,667건과15,250건이다. 그 밖의 출원인의 출원건수는 2,500건 미만이다.
2000년~2010년 동안 다출원 10위 내국 출원인 중 연평균 증감율이 가장 높은출원인은 엘지이노텍이다. 엘지이노텍의 연평균 증감율은 50.5%이다.
광학 분야에서 엘지이노텍의 출원건수는 2000년~2004년 동안 매년 15건 미만이었다. 2005년 74건에서 2010년 416건으로 증가하였다.
3. 외국 출원인의 출원현황
광학 분야에서 다출원 10위의 외국 출원인은 일본기업 8개 그리고 미국기업과 네덜란드기업 각 1개로 구성되어 있다.
광학 분야에서 외국 출원인 중 출원을 주도하는 기업은 일본의 세이코엡슨이며,2000년~2010년 동안 파나소닉의 출원건수는 1,400건이다. 일본 이외의 기업은 네덜란드의 필립스와 미국의 쓰리엠이며, 필립스와 쓰리엠의 출원건수는 각각 876건과 617건이다.
2000년~2010년 동안 광학 분야에서 다출원 10위의 외국 출원인 중 연평균 증감율이 가장 높은 출원인은 일본의 스미또모가가꾸이고 가장 낮은 출원인은 세이코엡슨이다. 스미또모가가꾸와 세이코엡슨의 연평균 증감율은 각각 17.8%와 -12.0%이다.
출처: 한국의 특허동향 자료출처: 특허청
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